（D）聚合物通道离子热扩散过程中，中国自动展Cl-阴离子和阳离子之间的相互作用。

因此，电力通过引入缺陷修饰MoS2惰性基面做助催化剂有望扩展半导体光催化材料在环境修复中的设计和应用。要点四：势分密度泛函理论（DFT）计算图4：(a)纯MoS2的俯视结构模型、侧视结构模型、能带谱和DOS图。

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势分要点八:电子迁移和寿命图8:(a)MT-0.09降解Rh-B的循环使用次数;(b)MT-0.09光催化反应前后的XRD谱图(附图:MT-0.09光催化反应前后的SEM图);(c)Rh-B可能的降解途径。(b)MoS2/TiO2-0.045、析组0.09、0.2、0.3在光催化反应中对Rh-B的降解率;(c)不同光催化剂的降解速率常数。

中国自动展电子邮箱：[email protected]第一作者周瑞峰：渤海大学化学工艺专业硕士研究生。

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